废气处理设备烟尘处理设备环境治理实力厂家

全国咨询热线

400-0517-168

半导体生产的工业烟尘治理

发布时间:2021-06-16

       国内研究人员正在开发新的半导体制造行业的工业烟尘治理技术,以去除国内主要出口产品半导体制造过程中的细尘等各种空气污染物。据国内机械材料研究所14日消息,从今年开始,一家半导体公司的工厂已经测试并运行了去除半导体工艺中产生的空气粉尘污染物的中央烟尘净化系统。该设备是新一代旨在同时去除氮氧化物 (NOx) 和硫氧化物 (SOx) 等气体和超细粉尘(PM 2.5 或更低)的设施。

工业烟尘治理

       半导体制造过程中也会产生微细粉尘相关物质,这是一个前沿行业。在半导体工艺过程中,在蚀刻工艺中使用蚀刻气体(氟化氢)切割作为半导体衬底的硅晶片上不需要的电路,并在清洗工艺中去除晶片上的杂质。由于这种气体是温室气体,因此不应气体原样排放,但是在去除的过程中,会产生导致氮氧化物或微尘等粉尘类物质。

       为此,半导体工厂也在不惜重金去除细小灰尘。这次开发的技术与现有方法需要高热量来去除废气中的烟尘不同,即使在低温下也可以除烟除尘,因此具有高能效,适应能力广。国内某烟尘治理公司表示:“由于国内半导体工厂毗邻人口稠密的地区,因此即使是微尘等微量空气污染物也不应排放。”

       同时减少半导体工艺中产生的微尘和废气,预计未来将应用于各个工厂的除烟除尘工作。半导体和显示器等高科技工业设备消耗大量能源并使用各种化学品,因此不可避免地会排放细尘或导致细尘二次产生的物质。此外,指出应为此准备微尘减少技术,因为智能工厂即使是少量的微尘等污染物也会产生,采用烟尘设备来进行半导体生产过程的工业烟尘治理工作。

推荐资讯

-->
400-0517-168